El mayor fabricante mundial de semiconductores comenzará este año a utilizar una nueva técnica basada en la litografía ultravioleta extrema (EUV, por sus siglas en inglés) para aumentar la capacidad de los chips ANTE su posterior lanzamiento.
La compañía realizó el anuncio durante un foro anual de su filial Samsung Foundry celebrado en Santa Clara, Estados Unidos, en el que también reveló que trabaja con tecnologías de cinco, cuatro y hasta tres nanómetros en fase experimental.
Cada nueva generación de chips se define por el tamaño mínimo de sus componentes esenciales, en este caso siete nanómetros (mil veces más pequeño que un glóbulo rojo), con los que se busca desarrollar microprocesadores más potentes y con mayor número de transistores.
La neoyorquina IBM anunció a mediados de 2015 que había comenzado a fabricar microprocesadores de siete nanómetros en laboratorios con intención de reproducirlos en plantas de producción, y aunque otras competidoras tienen metas similares, el anuncio de Samsung sugiere que estaría por delante de sus competidoras en el dominio de la EUV.
La litografía ultravioleta extrema es una técnica basada en el uso de longitudes de onda de luz muy cortas (cuanto más corta, menos circuitos pueden imprimirse) en el que las tecnológicas de todo el mundo han trabajado alrededor de una década para disminuir los costos que conlleva la producción de semiconductores tan pequeños.
Con su apuesta por la producción de procesadores de siete nanómetros, Samsung quiere afianzar su dominio del sector frente a competidores como IBM, Apple, Qualcomm o Taiwan Semiconductor Manufacturing (TSMC), que diseñan sus propios componentes.
